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      美國PSS

      Ultra Apex Mill Advance 新型低損傷納米分散機

      ADV是一種追求超低損傷納米分散的珠磨機。該模型特別適用于軟納米顆粒的低損傷分散。ADV是一種由專(zhuān)用轉子/分離器組成的整體旋轉的珠磨機。這種類(lèi)型是一種極低損傷的珠磨機,追求均勻性和低損傷(低離心力)。ADV實(shí)現了傳統珠磨機由于顆粒斷裂而難以實(shí)現的納米顆粒分散。它使分散不損害顆粒的原始物理性質(zhì)。ADV是DAM和WAM的進(jìn)一步發(fā)展模型,追求低損傷處理。適用珠磨粒徑: &Phi;0.015mm?&Phi;0.5mm攪拌

      ADV是一種追求超低損傷納米分散的珠磨機。該模型特別適用于軟納米顆粒的低損傷分散。

       

      ADV是一種由專(zhuān)用轉子/分離器組成的整體旋轉的珠磨機。這種類(lèi)型是一種極低損傷的珠磨機,追求均勻性和低損傷(低離心力)。ADV實(shí)現了傳統珠磨機由于顆粒斷裂而難以實(shí)現的納米顆粒分散。它使分散不損害顆粒的原始物理性質(zhì)。ADV是DAM和WAM的進(jìn)一步發(fā)展模型,追求低損傷處理。


      適用珠磨粒徑: Φ0.015mm?Φ0.5mm

      攪拌器轉速:2m/s?12m/s

      珠磨分離器轉速:6m/s?12m/s


      1.ADV實(shí)現了對粒子的低損傷分散。 

      通過(guò)減小離心力,ADV可以使顆粒損傷最小化。還可以抑制再聚集和由于顆粒破裂而導致的漿料粘度增加、凝膠化。ADV是進(jìn)一步提高DAM低損傷處理性能和WAM均勻處理性能的一種模型。 

       

      2. ADV實(shí)現了高度均勻的分散處理。 

      ADV配備了一個(gè)轉子,減少了磨珠的速度分布,抑制了磨珠的漂移。因此,它實(shí)現了極窄的粒度分布。該模型適用于有機顏料和電子材料的高級加工。 

       

      3.ADV可以減少污染。 

      ADV通過(guò)低離心操作降低了球珠間的碰撞能量,抑制了球珠的磨損。這就減少了漿料中的顆粒污染。

      工作原理

      珠磨機又稱(chēng)砂磨機,是一種在研磨腔中通過(guò)攪動(dòng)研磨介質(zhì)(磨珠)來(lái)研磨或分散漿料中的微小顆粒的設備。研磨容器內部裝有攪拌器,攪拌轉子(銀灰)按照預設的轉速轉動(dòng),推動(dòng)研磨腔內的研磨珠(白色)運動(dòng),研磨珠通過(guò)撞擊或者摩擦剪切的方式將漿料中大顆粒粉碎成小顆粒,或者將小顆粒團聚而成的團簇分散開(kāi)。漿料經(jīng)過(guò)粉碎或分散后,通過(guò)底部的狹縫,與研磨珠分離,然后從底部流出,通過(guò)管路回流到攪拌桶,之后再次被泵送入研磨腔,循環(huán)往復,直至達到目標細度。

      深圳市偉燁鑫科技有限公司

      ADV是一種由專(zhuān)用轉子/分離器組成的整體旋轉的珠磨機。這種類(lèi)型是一種極低損傷的珠磨機,追求均勻性和低損傷(低離心力)。ADV是DAM和WAM的進(jìn)一步發(fā)展模型,追求低損傷處理和高均一性。


      珠磨機的工作簡(jiǎn)單分,可分為兩種,一種是對大顆粒的“粉碎”,使之成為小顆粒;一種是對小顆粒團聚的“分散”使之分散成小顆粒穩定存在。圖2黃色圖形代表漿料內部的顆粒。左邊的一整塊大顆粒經(jīng)過(guò)珠磨機處理后,變成一個(gè)個(gè)小顆粒,此過(guò)程稱(chēng)之為粉碎。右邊大顆粒則是由小顆粒團聚在一起形成的團簇,經(jīng)過(guò)珠磨機處理后,原本團聚在一起的顆粒全部分散開(kāi),并不會(huì )重新團聚在一起,此過(guò)程稱(chēng)之為分散。

      應用


      高粘度材料

       

      光學(xué)材料(氧化鋯/二氧化硅在樹(shù)脂原料中的納米分散體)

       

      導電涂層材料

       

      化妝品(氧化鈦/氧化鋅在油中的分散體)

      低傷害分散材料

       

      電子材料(如鈦酸鹽、空心二氧化硅)

       

      電極材料(如納米銀、鎳)

       

      熱射線(xiàn)阻擋材料(如ITO)

       

      光催化劑(氧化鈦)

       

      LCD彩色濾光片顏料



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